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如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
行家说Talk · 2025-10-11
如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
近年来,Micro LED微型显示屏凭借其高亮度特性,逐渐成为光波导式AR光机的核心显示方案。然而,由于Micro LED芯片在制造过程中存在的个体差异,易导致显示屏出现发光不均匀问题,进而造成良率偏低、成本高的产业困境。
面对这一行业痛点,拓谱光技与合作伙伴共同开发了一系列检测设备及微显示光学测试解决方案。
Micro LED显示屏发光均匀性方面,拓谱光技开发出在芯片制造环节中使用的引入光致发光(PL)与电致发光(EL)光学检测方法,以及显示屏级别的光学式Demura(均匀性校正)技术,提高均匀度的同时,实现Micro LED显示屏良率提高、降低成本的目标。
除芯片工艺段外,拓谱光技还针对AR光机在光学性能方面的多样化需求,开发了完整的光学量测解决方案。其推出的SR-5100系列设备可满足激光、Micro LED、量子点(QD)等显示屏的测量需求,实现面积范围内的亮度、色度、主波长、光谱及峰值波长等多维度参数的高精度采集,为微显示屏与AR光机的质量控制和检测效率提升提供支撑。
如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
光色量测方案;图源:《2025 AI+AR眼镜光学显示调研白皮书》
最新消息,10月15日,株式会社拓谱光技首席光学专家朱振弦将出席『化合物半导体(SiC/Micro LED)赋能AR眼镜技术创新发展论坛』,并发表《Micro LED微型显示与AR光机的光学量测方案》主题演讲,从设备角度,分享如何通过高精度检测保障量产良率与显示一致性。
如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
据了解,拓谱光技于1982年成立,原为Topcon集团旗下光学产业仪器子公司,致力于光学测量仪器、半导体检测仪器等的开发、制造、销售和服务。
其中,针对AR前端到后段工艺,拓谱光技表示,可提供具备高精度、高分辨率、宽广视场角的成像光谱量测方案。
今年中国国际光电博览会上,企业带来2维分光辐射计、亮度色度均匀性测量仪等多款设备及方案。其中,SR-5100HM 2维分光辐射计,拥有500万像素高分辨率,以及170亿cd/m2高量程;UA-20CM亮度色度均匀性测量仪,具备2450万像素高分辨率,可实现最高24亿亮度高量程,为兼顾小型、轻量及高精细测量的成像式光学测量仪器。
如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
主讲人
朱振弦
职位
株式会社拓谱光技首席光学专家
演讲主题
『Micro LED 微型显示与 AR 光机的光学量测方案』
嘉宾简介
朱振弦,从事光电半导体和面板专业领域20年,曾担任Micro LED微型显示器和Mini LED 显示屏技术项目负责人,包含背板驱动IC、LED芯片工艺以及显示屏工艺整合等,并主导开发Micro /Mini LED芯片及成品检测设备。
现任TechnoOptis 首席光学专家,主要负责Micro /Mini LED/QLED/Micro OLED/透明显示/柔性屏等新型显示与AR光机光学量测等相关技术开发研究。
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如何提高Micro LED AR光机量产良率?10月15日揭晓
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