行家说UV 导读：
为了实现光学元件的快速、高分辨率制造，莱布尼茨大学的一个研究小组开发了一种基于UV LED的低成本显微投影光刻（MPP）系统，能够在几秒钟内制造出光学元件。
根据了解，MPP系统不使用汞灯或激光作为光源，而是使用波长为365纳米的廉价UV LED。该系统使用现成的元件制作，可在几秒钟内完成微结构和纳米结构的制作，这表明它有潜力为光学传感、光电子学、纳米光子学和其他应用高效地制作低成本结构。
MPP系统通过在UV照射下将光掩膜上的结构图案转移到光刻胶涂层基底上实现结构化。为了获得MPP所需的结构图案铬光罩，研究人员进行了几个预处理步骤。这些步骤包括开发结构设计，将其打印在透明箔上，以及使用光刻技术制备铬光罩。该研究小组还建立了一套用于制备光掩膜的光刻装置，利用该装置和湿法蚀刻工艺，研究人员将印在透明箔片上的结构图案转移到铬光掩膜上。
加入UV LED群，可添加岑夕（cenxitalk）
与此了解到，该研究团队优化每个加工步骤，使用喷墨打印和激光绘图仪打印将设计好的结构图案打印到透明箔片上，并比较了每种方法的打印质量。在制备铬光罩时，在装置中加入了两种不同的透镜，通过使用透镜将结构图案从透明箔转移到铬和光阻涂层基底上，并比较和分析了结构精度。为了最大限度地减少成像像差，研究小组在已建立的装置中使用了管状透镜，使无限远校正光学系统与显微镜物镜相结合。
通过优化打印方法和开发具有最小场相关像差的光学元件，研究人员能够使用数值孔径（NA）为1.4的100倍物镜制造出特征尺寸小至约85纳米的高分辨率结构。为了证实MPP系统的稳定性和功能性，研究小组展示了使用NA值为1.25的经济型100倍显微镜物镜也能制造出具有相同铬光罩的结构，在使用经济型物镜时，实现了约100纳米的最小特征尺寸。
结果表明，MPP制造方法可以实现低于衍射极限的100纳米以下特征尺寸的高分辨率结构，并证明了MPP系统实现高分辨率制造的能力。
来源：综合整理
END
▼
延伸阅读
▼
优炜芯一期项目已完成施工进度70%，预计今年交付使用
一团队研发出奈米级AlGaN发光装置，将用于紫外LED上
行家说UV 向上滑动看下一个
匿名