美国纽约州普莱恩维尤的外延沉积和工艺设备制造商Veeco Instruments Inc.推出了Lumina金属有机化学气相沉积（MOCVD）平台，该平台结合了专有的TurboDisc反应器技术，具有出色的薄膜均匀性，产量和设备优势。适用于各种光子学应用。新的MOCVD平台，包括Lumina R480和Lumina R480S型号，将加速垂直腔表面发射激光器（VCSEL），边缘发射激光器（EEL）和Micro/Mini LED器件的生产。
为了满足消费者对磷化砷（As / P）MOCVD技术的强烈需求，Lumina平台针对新一代高效光电器件，包括用于3D感测，自动驾驶和高速数据通信的VCSEL。Lumina平台还设计用于微型和微型LED生产，用于下一代4K和8K电视，智能手机和可穿戴设备以及用于光通信和硅光子学应用的EEL设备中的高级显示器。
产品线管理高级副总裁Gerry Blumenstock表示：“领先的光子学制造商目前正在看到我们的Lumina MOCVD系统的好处，并正在验证其对大批量光子学设备制造的影响。” 他相信：“凭借成熟的设计，技术和性能，Lumina为下一代光子学设备提供了令人兴奋的机会。”
Lumina R480和R480S系统基于Veeco的MOCVD TurboDisc技术，该技术在长时间的生产过程中具有高均匀性和低缺陷率，可实现高产量和灵活性。此外，该公司的专有技术可实现均匀的热控制，从而实现了极好的厚度和成分均匀性。该系统提供了无缝的晶圆尺寸转换功能，能够在直径最大6英寸的晶圆上沉积高质量的As / P外延层。Veeco说，R480和R480S系统允许用户定制其系统以实现最大价值。
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