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Micro LED+光波导加速上量，检测量测如何跟上节奏？

行家说快讯 · 2026-09-01

2026年，消费级AR眼镜新品密集发布，Micro LED+衍射光波导方案成为轻量化新品的主流路线。

随着技术从研发走向规模化交付，Micro LED显示芯片、衍射波导片的光学检测短板逐步凸显，检测设备已经成为影响良率、制造成本的关键变量。

当前，设备厂商也在加速搭建覆盖光机微显示光波导的全链路量测修复方案。

以株式会社拓谱光技（TechnoOptis）为例，其以高精度成像光谱技术为核心，已布局单点式光谱量测、成像式光谱量测、单点式滤片量测、成像量测等多类AR光学量测产品，顺利切入Micro LED微显、AR 光机的亮度、色度、光谱检测环节。

近期行家说Display调研了解到，拓谱光技确定了两大发展方向：

1）结合Y.A.C. Holdings集团AOI自动光学检测能力，打造“自研光谱精度+集团AOI全检速度”，输出从研发验证到量产阶段的一站式整线量测方案；

2）持续发展高精度光学量测仪器外，推进2000万像素以上高解析度成像光谱仪研发，持续强化色偏检测、光谱解析及自动化量测能力，适配AR 光机、衍射光波导、消费级智能眼镜的量产检测需求。

9月8日，株式会社拓谱光技首席光学专家朱振弦将莅临【Mini LED背光画质进阶与Micro AR眼镜趋势分析会】，带来主题分享『高精度高光谱仪在Micro LED AR光学显示模组的量测方案』，围绕Micro LED工艺量测与AR衍射波导片检测两大方向展开交流。

据了解，拓谱光技成立于1982年，原为Topcon集团旗下光学产业仪器子公司，2025年正式加入日本半导体设备企业-Y.A.C. Holdings集团。目前，面对Micro LED与AR衍射波导量产阶段的量测难题，企业也给出对应的技术解法。

Micro LED 规模化量产进程中，检测环节长期面临精度与效率的取舍。行业主流采用电致发光（EL）、光致发光（PL）两套量测体系，但二者各有局限，EL量测能精准反映漏电流等电学特性，但传统探针易损伤电极；PL量测具备非接触、速度快的优势，却难以发现电学缺陷。

针对这一矛盾，拓谱光技正与合作伙伴投入软性探针大面积EL测试的开发，目标为实现高效率、无损伤的芯片电学检测。

落到AR 衍射光波导，工艺中常见的挑战是光能量在全反射递减所引起的局部色偏，以及因光栅衍射角不同导致的彩虹效应。当前传统检测设备在应对上述需求时面临两大瓶颈。一是滤色片式成像色度计，该设备可定位“哪里色偏”，但无法回答“偏移发生在哪个波长”。二是点式分光辐射计，精度高且可溯源至计量基准，但一次仅能测量单个视场点，全画面检测须逐点扫描，效率无法支撑量产抽检密度。

为协助客户量化这两项指标，拓谱光技已开发出SR-5100高精度高光谱仪。据企业介绍，该设备可一次性输出全画面的光谱分布、亮度及色度均匀性，1nm分光分辨率能精确量测画面上500万个点的主波长与峰值波长偏移，快速定位压印工艺或光栅设计的缺失。

主讲人

朱振弦

职位

株式会社拓谱光技首席光学专家

演讲主题

『高精度高光谱仪在Micro LED AR光学显示模组的量测方案』

演讲亮点

在微显示与轻量化AR光学的发展进程中，检测技术的效率与精度始终是影响良率的关键，在Micro LED工艺中电致发光（EL）与光致发光（PL）是经常采用的量测方式也各有其优缺点，EL能精准量测漏电流电学特性，但传统探针易损伤电极，PL虽具备非接触速度快的优势，却难以抓出电学缺陷，对此拓谱光技与合作伙伴正投入软性探针大面积的EL测试的开发，期望落实高效且无损的量测。

而在AR衍射波导片的检测上，工艺中常见的挑战是光能量在全反射递减所引起的局部色偏，以及因光栅衍射角不同导致的彩虹效应。为协助客户量化这两项指标，拓谱光技SR-5100高精度高光谱仪可一次性输出全画面的光谱分布、亮度及色度均匀性，1nm分光分辨率能精确量测画面上500万个点的主波长与峰值波长偏移，快速定位压印工艺或光栅设计的缺失，实现高精度的色散量化。

嘉宾简介

朱振弦，深耕于光电半导体与新型显示领域20余年，曾任Micro LED微型显示器与Mini LED显示器技术项目负责人，在驱动背板、LED 晶粒制程及显示器系统整合方面深具经验，并主导开发 Micro/Mini LED 芯粒与成品检测设备，现任拓谱光技（TechnoOptis）首席光学专家，主要负责 Micro/Mini LED、QLED、Micro OLED、透明显示、柔性面板以及 AR 光机等前沿显示技术的核心光学量测的研发与创新。