Samco 推出等离子增强 ALD 系统

行家说消息  Samco 是一家为半导体及相关行业和学术机构提供蚀刻、沉积和表面处理处理设备的制造商，该公司推出了新的等离子增强原子层沉积 (PEALD) 系统“AD-800LP”。该系统的主要目标是用于碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）材料的下一代功率器件的栅极氧化膜沉积，这将对碳中和发挥重要作用。

等离子体增强型 ALD 系统“AD-800LP”是一种多功能研发系统，除了传统的热 ALD 功能外，还配备了称为“Tornado ICP”的独特 ICP 等离子体源。AD-800LP 可通过 Tornado ICP 实现各种薄膜沉积，例如氧化膜或氮化物膜，这是 Samco 专有的等离子体技术，与远程等离子体不同。即使在 ALD 沉积过程中的高压范围内，Tornado ICP 也能实现稳定的等离子体放电。

Samco 总裁兼首席运营官 Tsukasa Kawabe 说：“我们还在考虑一个集群 ALD 系统，它可以连接多个反应室进行生产。” “AD-800LP 的推出将大大增强我们在世界 ALD 设备市场的影响力。” 冢本补充道。

作为一家全球中型企业，Samco 不仅在日本而且在美国已经成功地为电子设备领域提供了大量的干法蚀刻系统和等离子增强 CVD 系统，主要用于 SiC、GaN 和 GaAs 等化合物半导体、欧洲、台湾、韩国、中国、东南亚、印度等国家。新的纳米薄膜和材料研究中心于 2022 年 2 月开业，进行包括 ALD 系统在内的独特薄膜沉积的研究和开发。Samco 将继续利用我们的“薄膜技术”开发独特的产品并扩大全球销售。