单论氧化性,氧与氧不同
Rad聊碳化硅 · 2021-06-15
单论氧化性,氧与氧不同
碳化硅系列第59篇
如果感觉文章很长
那是我们要走很远
在化学机械抛光中,会使用双氧水将表面的碳化硅转化为二氧化硅。通过这样的反应生成的二氧化硅的硬度比碳化硅低,使得机械抛光更快更好。其中,实现氧化的双氧水叫做氧化剂。
如果你直接百度强氧化剂,可以得到如下的氧化性表。
可以看到,同样是氧,氧化效果是不同的。这是因为含氧物质内部起到氧化作用的电子结构是不同的,这叫做氧物种的不同。
从最简单的单纯氧组成的氧物种来分析一下。
从轨道理论可以知道,氧原子的最外层是2p轨道,占据着4个电子,其中两个电子是不成对的,所以具有极高的氧化性,氧化电势为2.7eV。但是,氧原子是不稳定的,容易形成氧气,可以看分子轨道理论,整体的能量降低了,但是,氧气的氧化电势就只有1.3eV了。
为此,常常通过其他方法给氧原子或者氧气电子。代表性的就是给氧原子一个电子所形成的羟基自由基,HO·,具有极高的氧化电势2.8eV。
介绍一下符号:HO·:其中H表示H+离子,用于推断O的电价;O表示O-离子,通过H的数目推断具体电价,由此计算电子结构;·表示该组合为自由基,本身无意义。比如HO2·中的氧物种为O2-。
因为羟基自由基,HO·,极高的氧化电势2.8eV,而且用完变成H2O,所以基本上所有的高级氧化技术,都是通过各种手段生成羟基自由基,HO·。常见的手段包括了化学(芬顿反应)、光(紫外光)、热(高温)、声、臭氧、电。
其中,最典型的就是芬顿反应。百度百科介绍芬顿反应:1893年,化学家Fenton发现,二价铁离子使得过氧化氢(H2O2)的氧化性增强。具体原理就是二价铁使得过氧化氢转化为羟基自由基和羟基。
梁华卓的单晶SiC磁流变化学复合抛光机理研究博士论文中提到,羟基自由基能有效氧化碳化硅。并且,在工业上也被认为是可以使用的。在专利[中国发明] CN202110055105.7 碳化硅晶片及其加工方法 审中-公开发明中,就通过添加氧化铁/四氧化三铁/氧化亚铁来提高抛光液的氧化性。
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鸿 Rad
兼修碳化硅的晶体博士生
15620600610
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