Invenia开发了Gen10.5面板ICP蚀刻机

Invenia开发了Gen 10.5面板ICP蚀刻机

韩国显示设备制造商Invenia已开发出用于10.5代（2940x3370）基板的电感耦合等离子体（ICP）干蚀刻机。

图片来源：Invenia

该公司表示，该蚀刻机可用于Gen 10.5 OLED和液晶显示器（LCD）生产线。

该公司以前曾为8.5代（2200x2500）提供过蚀刻机。

干蚀刻机使用等离子体形式的气体来去除电路上不必要的部分。

除ICP刻蚀机外，另一种干法刻蚀机是增强型电容耦合等离子体（ECCP）。

ICP使用腔室内的天线来控制腔室内的等离子体，这使得高密度等离子体的压力相对较低。

ECCP通过放置在顶部和底部的两个电极产生等离子体。它具有简单的结构，并允许控制等离子体密度和离子能量。

东京电子最近还完成了Gen 10.5 ICP干法刻蚀机的开发。

LG Display采用的是日本东京电子和Invenia的测试套件。

Invenia是LG Display在广州的8.5代OLED工厂的ICP和ECCP干蚀刻机的独家供应商。

Invenia和东京电子都向客户提供了用于10.5代LCD生产线的ECCP干蚀刻机。

ICP比ECCP贵50％左右。但是ECCP约占显示器生产线所用设备的80％至90％。

同时，Invenia正在寻找电池隔膜检测套件和化妆品包装检测设备的新产品。

该公司去年的销售额为1410亿韩元，营业收入为47亿韩元，分别比2019年下降了3.5％和增长16.9％。

中国的HKC是其最大的客户，占其销售额的46％。其次是京东方的25％，CSOT的15％和LG Display的12％。

来源：译自thelec

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