Invenia开发了Gen10.5面板ICP蚀刻机
OLEDindustry · 2021-05-14
Invenia开发了Gen 10.5面板ICP蚀刻机
韩国显示设备制造商Invenia已开发出用于10.5代(2940x3370)基板的电感耦合等离子体(ICP)干蚀刻机。
图片来源:Invenia
该公司表示,该蚀刻机可用于Gen 10.5 OLED和液晶显示器(LCD)生产线。
该公司以前曾为8.5代(2200x2500)提供过蚀刻机。
干蚀刻机使用等离子体形式的气体来去除电路上不必要的部分。
除ICP刻蚀机外,另一种干法刻蚀机是增强型电容耦合等离子体(ECCP)。
ICP使用腔室内的天线来控制腔室内的等离子体,这使得高密度等离子体的压力相对较低。
ECCP通过放置在顶部和底部的两个电极产生等离子体。它具有简单的结构,并允许控制等离子体密度和离子能量。
东京电子最近还完成了Gen 10.5 ICP干法刻蚀机的开发。
LG Display采用的是日本东京电子和Invenia的测试套件。
Invenia是LG Display在广州的8.5代OLED工厂的ICP和ECCP干蚀刻机的独家供应商。
Invenia和东京电子都向客户提供了用于10.5代LCD生产线的ECCP干蚀刻机。
ICP比ECCP贵50%左右。但是ECCP约占显示器生产线所用设备的80%至90%。
同时,Invenia正在寻找电池隔膜检测套件和化妆品包装检测设备的新产品。
该公司去年的销售额为1410亿韩元,营业收入为47亿韩元,分别比2019年下降了3.5%和增长16.9%。
中国的HKC是其最大的客户,占其销售额的46%。其次是京东方的25%,CSOT的15%和LG Display的12%。
来源:译自thelec
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