共同生产MicroLED显示背板!国外两大知名厂商又一大动作

光电与显示 · 2021-03-13

共同生产Micro LED 显示背板!国外两大知名厂商又一大动作

3月10日,据国外媒体报道,Compound Photonics(以下称“CP”)现在宣布与专业代工厂GLOBALFOUNDRIES(以下称“GF”)建立合作伙伴关系,以生产IntelliPix背板。CP的设备将在GF同类最佳的22FDX专业半导体平台上实现。

通过行业领先的合作伙伴关系,CP和GF开始在GF的22FDX平台上开发一系列尖端的定制解决方案,以支持IntelliPix的灵活体系结构,该体系结构提供软件定义和可扩展的功能集。

与CP以前的平台相比,IntelliPix的整体进步可支持高达100倍的调制速度,同时在整个视频管道中消耗的系统功率减少4到12倍,同时释放了硅基液晶,新兴的Micro LED和LED的真正潜力。

Compound Photonics与GLOBALFOUNDRIES合作制造IntelliPix,这是全球首款单片微显示器,提供背板设计选项,可在硅上实现Micro LED或液晶。(图片来源:CP Display)

IntelliPix平台基于CP的OnDemand Pixels技术——智能地仅关注变化的像素。不仅能节省了无效像素区域的功率,还能提供了高图像质量和亮度,同时也显着降低了整个显示子系统的功耗(OnDemand Pixels)。

通过利用GF 22FDX平台的高性能,超低功耗和广泛的功能集成能力,CP能够以高帧速率和低延迟在整体上交付IntelliPix的智能像素数字背板及其专有的实时视频流水线。一块单一的芯片,在显示面积、成本或功耗方面都没有任何妥协,可以满足广泛的消费者AR的关键要求。

GF是CP下一代单片显示器IntelliPix的理想合作伙伴。CP的工程副总裁Ian Kyles说:“其业界领先的22FDX平台提供了低功耗优势,密度和互连特性,这些特性使我们能够进行一系列最新的创新,并且他们愿意为我们的显示器定制其他功能,从而简化了我们的制造流程。”

迄今为止,GF的22FDX解决方案向全球客户交付了超过3.5亿个芯片。

“我们很荣幸与Compound Photonics合作,并利用我们世界一流的技术来帮助他们改变游戏规则的IntelliPix平台实现量产,” GF汽车、工业和多市场高级副总裁兼总经理Mike Hogan表示,IntelliPix的突破性设计仅激活需要刷新的像素,与GF的22FDX平台自然匹配,该平台是业界领先的超低功耗解决方案,具有出色的内存密度和集成能力,可支持一系列未来-转发应用程序。

对于新兴的Micro LED像素技术,IntelliPix-iDrive可以配置有恒定电流像素驱动器,该驱动器经过优化,可以通过软件定义的驱动方案和MIPI接口支持像素到像素的均匀性。IntelliPix还提供IntelliPix-vDrive配置,作为电压/电荷驱动像素,已针对驱动振幅和相位/全息光调制的基于LC的像素进行了优化。

IntelliPix的OneChip物理设计消除了显示像素驱动器(背板)和显示驱动器IC(DDIC)功能之间的传统区别,从而减少了总体物理体积和功耗,同时实现了最先进的功能。CP和GF之间的合作关系实现了基于vDrive或iDrive调制背板/显示器的定制Intellipix架构,该背板/显示器已根据客户要求进行配置。

IntelliPix微显示技术平台可针对2048 x 2048及更高分辨率进行定制。此前, CP在2020年宣布了其高性能IntelliPix Micro LED微显示器背板技术。据了解,CP的背板支持高达2048x2048的分辨、1.5 um或更高的像素间距。

公开资料显示,GF位于美国加利福尼亚州圣克拉拉( Santa Clara, CA, USA),目前是全球第三大专业晶圆代工厂,仅次于台积电和三星。

2020年,CP宣布开发出高性能IntelliPix Micro LED微显示器背板驱动技术,适用于分辨率达2048x2048及以上、像素间距1.5微米以上的解决方案。

IntelliPix平台基于CP的随需应变像素技术,该技术能够仅聚焦正在变化的像素,非常智能,可节省非工作状态下像素区域的功耗,提升图像质量。而基于GF高性能、超低功耗22FDX平台生产出来的新型背板能够实现高刷新率、低延时及低功耗等特性。

值得一提的是,除了GF,CP还战略联合了Plessey、设备商Axus共同推动下一代AR智能设备用Micro LED显示器的开发。

此外,去年底,CP在美国亚利桑那州钱德勒市(Chadler)的Micro LED制造工厂MiAC(MicroLED Innovation Acceleration Center)开业,该工厂致力于加速5μm以下单片集成Micro LED显示器的上市时间。

接下来,在专业晶圆代工厂的助力下,CP的开发进程将再提速。据其透露,首款基于Micro LED微显示器背板的商用化产品预计2023年上市。

Micro LED是一种发光二极管(LED),尺寸通常小于100微米( m),常见尺寸小于50 m,有些甚至仅有3-15 m。就比例而言,Micro LED的尺寸约为传统LED的1/100,约为人类头发宽度的1/10。在Micro LED显示器中,每个像素(每个二极管)都经过单独寻址和驱动以发射光线,无需背光(类似于OLED显示器),它们是由无机材料制成的,可提供较长的使用寿命(类似于LED)。

高亮度、低功耗、超高解析度与色彩饱和度。Micro LED最大的优势都来自于它最大的特点,微米等级的间距,每一点画素(pixel)都能定址控制及单点驱动发光。比起其他LED,发光效率上,目前Micro LED最高,且还在大幅提升空间;发光能量密度上,Micro LED最高,且还有提升空间。——前者,有利于显示设备的节能,其功率消耗量约为LCD的10%、OLED的50%;后者则可以节约显示设备有限的表面积,并部署更多的传感器。

寿命长。由于Micro LED使用无机材料,且结构简易,几乎无光耗,它的使用寿命非常长。这一点是OLED无法相比的,OLED作为有机材料、有机物质,有其固有缺陷——即寿命和稳定性,难以媲美无机材料的QLED和Micro LED。

成本降低空间大。目前微投影技术以数位光线处理(DigitalLightProcessing,DLP)、反射式硅基板液晶显示(LiquidCrystalonSilicon,LCoS)、微机电系统扫描(MEMSScanning)叁种技术为主,但这叁种技术都须使用外加光源,使得模组体积不易进一步缩小,成本也较高。相较之下,采用自发光的MicroLED微显示器,不须外加光源,光学系统较简单,因此在模组体积的微型化及成本降低上具优势。

Micro LED的显示原理,是将LED结构设计进行薄膜化、微小化、阵列化,其尺寸仅在1~10μm等级左右;后将MicroLED批量式转移至电路基板上,其基板可为硬性、软性之透明、不透明基板上;再利用物理沉积制程完成保护层与上电极,即可进行上基板的封装,完成一结构简单的MicroLED显示。

而要制成显示器,其晶片表面必须制作成如同LED显示器般之阵列结构,且每一个点画素必须可定址控制、单独驱动点亮。若透过互补式金属氧化物半导体电路驱动则为主动定址驱动架构,MicroLED阵列晶片与CMOS间可透过封装技术。

黏贴完成后MicroLED能藉由整合微透镜阵列,提高亮度及对比度。MicroLED阵列经由垂直交错的正、负栅状电极连结每一颗MicroLED的正、负极,透过电极线的依序通电,透过扫描方式点亮MicroLED以显示影像。

Micro LED作为产业链的新兴环节,有一个其他电子行业几乎不会用到的高难度工艺——巨量微转移(也叫巨量转移)。巨量转移被视为影响良率以及产能释放的核心因素,也是各大厂商聚焦攻坚的地区。目前在技术路线上也已经有了不同的方向,分别为激光转移、自组装技术以及转印技术。

“巨量转移”是一个什么技术呢?简单说就是在指甲盖大小的TFT电路基板上,按照光学和电气学的必要规范,均匀焊接三五百,甚至更多个红绿蓝三原色LED微小晶粒,且允许的工艺失败率是有几十万分之一。——只有达到这样工艺的产品,才能真正应用到AppleWatch3等产品上。

对于MicroLED的工艺问题,很多人认为,可以从传统LED屏中摄取经验。但是,MicroLED与传统led显示产品差别巨大。与传统LED显示屏比较,MicroLED的差别主要在于:1.精密程度数十倍的提升;2.集成工艺从直插、表贴、COB封装等变成了“巨量微转移”;3.缺陷可修复性几乎为零;4.背板从印刷电路板,变成了液晶和OLED显示所使用的TFT基板,或者CPU与内存所采用的单晶硅基板。