Wonik IPS似乎不太可能提供三星QD显示CVD设备

三星显示器有望在美国的应用材料公司的等离子化学气相沉积（PECVD）设备中投入第一条专门用于量子点（QD）显示器的Q1生产线。国内设备制造商Wonik IPS旨在进入市场，但据报道采用该设备的可能性很小。

据业内人士16日说，三星显示器将在本周开始Q1系列的主要设备选择工作。他们计划签署供应协议或发送意向书（LOI）。首先确定长期交付设备，从设备制造到工厂到货，这需要很长时间。有机材料沉积设备，曝光设备，喷墨打印设备，CVD设备等属于长期交货期。Wonik IPS于2012年开始开发用于显示器生产线的PECVD设备，据报道，该产品已于两年前进入商业化市场。尽管它的目标是首次供应三星显示器的Q1系列产品，该产品是由于2021年的运营计划而新投资的，但据报道，在美国选择应用材料设备的可能性很高。

QD Display计划在三星显示器（Samsung Display）的Q1生产线生产，它使用有机发光二极管（OLED）作为光源，并通过量子点发光（PL）改善色彩再现。第6代（1500mm x 1850mm）柔性OLED生产线中使用的帽中膜（TFE）工艺也应用于Q1生产线。 在Q1线中，在8.5代（2200mm x 2500mm）基板上执行TFE工艺。第六代柔性OLED的TFE工艺是在第六代半切（1500mm x 925mm）中完成的。基板尺寸越宽，通常需要进行均匀性控制。

一位行业官员说：“我们对Samsung Display内部技术的本地化和内部化很感兴趣。”但是，当我们首次尝试QD显示器生产线时，我们似乎正在尝试采用我们熟悉的设备。” 他说：“我认为性能没有区别。” 根据市场研究机构IHS Markit的数据，在过去三年（2017-2019年）中，应用材料在显示CVD设备市场中占有84％的份额。在TFE工艺和薄膜晶体管（TFT）形成工艺中均使用CVD设备。用于TFE工艺的PECVD设备在低于100度的较低温度下沉积基于硅（Si）的薄膜。TFT制程温度范围为200-400度。

Wonik IPS正在准备激光钻孔设备，这是Q1线中引入的新设备之一。该公司正在与激光设备制造商Philoptics合作开发设备。激光钻机的作用是在连接辅助阴极和主阴极的通道上钻孔。应该可以快速，均匀地钻出许多细孔。

QD Display的OLED光源计划在Q1线生产，它是顶部发射的，因此主阴极无法加厚。Wonik IPS也正在为Q1生产线提供电感耦合等离子体（ICP）干蚀刻（ICP）设备。包括Wonik IPS，国内ICD和日本东京电子在内的三家公司正在竞争。Q1线上将订购七台干法蚀刻设备。月生产能力为30,000张。

来源：thelec